全自动设备

全自动胶键合机

简述 Briefly describe:

在胶键合工艺过程中,胶作为中间层将两衬底键合到一起。键合胶通常被涂覆到其中一片晶圆表面或两片晶圆表面。最常用的胶涂覆方式是旋转涂覆,或者是喷涂涂覆。以永久键合胶或临时键合胶为中间层,将两片衬底(硅、玻璃、陶瓷、金属或其它单晶材料)通过加热加压的方式贴合在一起,以满足封装或后续减薄等工艺需求。兼容贴膜功能,适合 SU8 干膜、电镀干膜、键合干膜等。

 

设备模块 Equipment Module:

晶圆传输模块、旋涂模块、胶键合模块、冷/热板模块、裂片检测模块、光学寻边模块、Cassette模块。

 

性能指标介绍 Performance Metrics Introduction:

1、衬底

晶圆尺寸:

150mm Si切口晶圆 厚675±25 μm;

100mm Si平边晶圆 厚525±25 μm;

150mm GaAs切口晶圆 厚675±25 μm; 

150mm GaN-on-SiC切口晶圆(透明/半透明) 厚500±25 μm;

100mm GaN-on-SiC平边晶圆(透明/半透明) 厚500±25 μm;

基板尺寸:159mm 蓝宝石基板 厚702±10μm;

 

1、晶圆传输模块

X、Y、Z旋转,单臂执行;

4寸/6寸兼容;

Mapping 功能需有叠片及错槽判定且可正确识别产品在晶舟内放置位置。

 

2、光学寻边模块

适用于平边/切口晶圆。

 

3、Cassette模块

可兼容4寸/6寸标准Cassette。

 

5、胶键合模块

6寸胶键合;

下热板最高 350℃±2℃;

上热板 ≥ 200℃±2℃;

升温速率:>15℃/Min;

冷却方式:水冷/气冷;

降温速率:>10℃/Min;

键合圆心对准误差≤0.2mm,角度误差≤1°;

键合压力范围: 最大值100kg,最小值0kg;

最小可调压力:≤1kg;

工作真空:<30Pa;

极限真空:<10Pa;

加热板平整度:<5 μm;

装配后贴片平整度平片≤ 5 μm(晶圆与载片的TTV需≤ 5μm)。

 

6、旋涂模块

卡盘材质:PEEK;

卡盘直径:φ80mm;

旋转转速:10~3000rpm ±1rpm;

旋转加速度最大值:3000rpm/s;

电机驱动旋转手臂A;,移动角度:0°~ 90°,移动速度:1mm/s~ 100mm/s;

背洗 /背吹。

 

7、冷/热板模块

热板:RT~250℃±2℃,9点测温均温度 (120℃±2℃);

冷板:冷板采用内部有微槽道的不锈钢水冷板。

 

应用领域 Application Fields:

MEMS、微流控芯片、集成电路、先进封装、LED


  • 全自动胶键合机
  • 全自动胶键合机
产品咨询
产品名称 *
邮箱 *
电话 / 手机
留言 *
Copyright © 2023 苏州美图半导体技术有限公司. All Rights Reserved