机械物理清洗
一、刷洗刷洗是最基础，最常用的物理清洗方式，采用软质特氟龙刷配合去离子水、湿法清洗溶液等喷淋，通过刷子的机械摩擦作用，高效去除晶圆表面微米级别的大颗粒沾污，同时可辅助去除部分零散附着的有机沾污。我司的刷洗设备搭载平头圆刷和滚动轮刷，刷头材质为PVA（聚乙烯醇），该材质孔隙率高、质地柔软，可在与晶圆表面接触时实现均匀的压...
2026-06-23
一、刷洗刷洗是最基础，最常用的物理清洗方式，采用软质特氟龙刷配合去离子水、湿法清洗溶液等喷淋，通过刷子的机械摩擦作用，高效去除晶圆表面微米级别的大颗粒沾污，同时可辅助去除部分零散附着的有机沾污。我司的刷洗设备搭载平头圆刷和滚动轮刷，刷头材质为PVA（聚乙烯醇），该材质孔隙率高、质地柔软，可在与晶圆表面接触时实现均匀的压...
2026-06-23
一、前言除了此前介绍过的RCA清洗工艺以外，常见的湿法清洗还包括SPM、DHF、BHF等多种专用化学清洗体系。二、湿法清洗1、SPM清洗SPM溶液由硫酸（H₂SO₄）与双氧水（H₂O₂）按一定比例混合而成。其核心清洗目标是去除晶圆表面的光刻胶及重有机污染物，如聚合残渣、油脂等，SPM是目前去除有机污染能力最强的湿法清洗...
2026-06-17
一、前言在半导体器件制造流程中，晶圆表面的洁净度直接决定了器件的良率、可靠性与性能。晶圆从硅锭切割成型后，表面会不可避免地附着颗粒杂质、有机残留、金属污染物及自然氧化层，即使是微米级甚至纳米级的杂质，也可能导致器件功能失效，因此晶圆清洗是半导体制造流程中不可或缺的关键工序。晶圆清洗并非简单的表面清洁，而是基于工艺需求所...
2026-06-09
本系列上一篇介绍了光刻胶剥离工艺的基本概念、剥离液体系的选择与作用机理、负胶的基本化学机制、底切形成的物理机制。本篇将继续从工艺参数对底切的调控、截面形貌对剥离工艺的影响、特殊工艺技术探讨光刻胶形貌对湿法剥离工艺的影响。一、工艺参数对底切的调控1、曝光剂量底切的程度可以通过多种工艺参数进行精确调控，其中曝光剂量是最直接...
2026-06-08
光刻胶剥离工艺是半导体制造和微纳加工中的关键技术环节，直接影响器件的性能和良率。在金属互连、微机电系统（MEMS）器件、光电器件等制造过程中，光刻胶剥离工艺承担着图案转移和材料去除的双重功能。I-line 光刻胶作为 i 线（365nm）光刻的主流材料，在微纳加工领域应用广泛。其湿法剥离工艺相比干法剥离具有设备成本低、...
2026-06-05
光刻胶，即光致抗蚀剂，是微电子制造中至关重要的材料，主要用于半导体集成电路和光电子器件的微细图形转移。在光刻过程中，光刻胶涂覆于硅片表面，经曝光、显影等步骤，形成所需图案。其性能参数，如灵敏度、分辨率、粘度、抗蚀性等，直接影响到光刻工艺的质量。根据化学反应类型，光刻胶可分为正性和负性两种：正性光刻胶在曝光后变得可溶解，...
2025-01-13
在当今科技飞速发展的时代，微机电系统(MEMS)传感器正以其独特的优势在众多领域中发挥着关键作用。MEMS 传感器是采用微机械加工技术制造的微型传感器，具有体积小、重量轻、功耗低、成本低、可靠性高等优点。在智能手机领域，MEMS 传感器可谓是不可或缺的关键组件。加速度传感器、陀螺仪、磁力计等 MEMS 传感器能够实现手...
2025-01-01
随着科技的飞速发展，生物芯片技术已经成为生物技术领域的一个重要分支。它以其高通量、高灵敏度和低成本的特点，被广泛应用于基因表达分析、疾病诊断、药物筛选等多个领域。本文将探讨生物芯片技术的基本原理、发展历程以及在不同领域的应用前景。生物芯片技术制作原理及流程1.制作原理生物芯片的制作原理主要是基于微电子和微机械工艺，将生...
2024-12-27
在当今科技迅猛发展的时代，微纳加工技术已经成为制造业中不可或缺的一部分。它涉及到在微观尺度上对材料进行精密加工，以达到前所未有的精度和复杂性。这种技术的应用范围广泛，从半导体制造到生物医学工程，微纳加工技术正在推动着各个行业的创新和发展。激光微纳加工技术通过利用激光的高能量和高聚焦性，将激光束聚焦到极小的光斑，令材料在...
2024-12-27
在当今世界，可再生能源的发展已经成为全球关注的焦点。本征硅片，作为光伏产业中的核心材料之一，其性能和质量直接影响着太阳能电池的效率和成本。本文将深入探讨本征硅片的重要性、市场前景以及在光伏产业中的应用。光伏电池片的核心原材料是光伏硅片，它处于光伏主产业链的上游。光伏硅片呢，就是把硅棒经过切片、抛磨、清洗等工序制成的高纯...
2024-12-27
在高科技领域，MEMS芯片(微电子机械系统)技术正以惊人的速度发展，它结合了微电子技术和机械工程，为各种行业带来了革命性的变化。从智能手机到医疗设备，MEMS芯片的应用无处不在，其市场规模和影响力不断扩大。本文将探讨MEMS芯片的基本概念、技术特点、市场应用以及未来的发展趋势。一、MEMS技术概述及其发展现状1. M...
2024-12-27
在半导体行业，光刻技术是制造过程中不可或缺的一环。它涉及到使用光源将电路图案转移到硅片上，是实现微电子器件精确制造的关键技术。随着科技的不断进步，光刻技术的发展对于提升芯片性能、降低成本以及推动整个行业的发展具有重要意义。本文将深入探讨光刻技术的基本原理、发展历程以及在现代半导体制造中的应用。一、光刻技术简介在半导体工...
2024-12-27
